| Dépôt PVD et pulvérisation cathodique | Source consommable installée dans la cathode ou l’ensemble cible | Cibles WC rondes, rectangulaires et profilées, ébauches et pièces usinées | Fissuration, arc, érosion locale, contrainte de montage et surface instable | Examiner chimie, pureté, densité, géométrie, mode de liaison et équipement | Ébauche frittée, cible usinée, rectifiée/rodée, liée ou non selon accord |
| HVOF, plasma et projection thermique | Poudre déposée comme revêtement anti-usure, anti-érosion ou anticorrosion | Poudres WC et Cr3C2 et mélanges sélectionnés | Mauvais écoulement, fusion incomplète, décarburation, porosité et réponse irrégulière | Adapter procédé, équipement, substrat, chimie, granulométrie et objectif du revêtement | Fraction et morphologie définies, emballage par lot et documents de contrôle convenus |
| PTA, projection-fusion et rechargement laser | Couche d’usure déposée ou zone de rechargement localisée | Poudres de rechargement, carbure coulé/macrocristallin, poudres de matrice et consommables | Dilution, fissures, dissolution des particules, dépôt irrégulier et surépaisseur | Examiner substrat, apport thermique, procédé, matrice, fraction carbure, service et finition | Poudre/fraction carbure, mélange, consommable tubulaire ou conditionnement dédié |
| Composants finis revêtus ou rechargés | Composant dont la surface de travail reçoit un revêtement sélectionné | Pièces d’usure revêtues, outils rechargés, manchons, plaques et pièces sur plan | Décollement, dommage d’interface, déformation, surépaisseur et cote finale manquée | Examiner substrat, procédé, masquage, épaisseur, finition et critères d’acceptation | Substrat préparé, semi-fini revêtu, composant fini ou ensemble contrôlé |