| Deposizione PVD e sputtering | Sorgente consumabile installata nel catodo o nel gruppo target | Target WC tondi, rettangolari e sagomati, grezzi e parti lavorate | Cricche, archi, erosione locale, tensione di montaggio e superficie instabile | Valutare chimica, purezza, densità, geometria, metodo di bonding e impianto | Grezzo sinterizzato, target lavorato, rettificato/lappato, bonded o non bonded |
| HVOF, plasma e spruzzatura termica | Polvere depositata come rivestimento resistente a usura, erosione o corrosione | Polveri WC e Cr3C2 e miscele selezionate | Scarsa scorrevolezza, fusione incompleta, decarburazione, porosità e risposta instabile | Abbinare processo, impianto, substrato, chimica, distribuzione e obiettivo coating | Frazione e morfologia definite, imballo per lotto e documenti concordati |
| PTA, spray-fuse e laser cladding | Strato antiusura depositato o zona di riporto localizzata | Polveri da riporto, carburo fuso/macrocristallino, matrici e consumabili hardfacing | Diluizione, cricche, dissoluzione particelle, deposito irregolare e sovrametallo | Valutare substrato, calore, processo, matrice, quota carburo, servizio e finitura | Polvere/frazione carburo, miscela, consumabile tubolare o confezione di processo |
| Componenti finiti rivestiti e riportati | Componente la cui superficie di lavoro riceve un rivestimento selezionato | Parti antiusura rivestite, utensili riportati, manicotti, piastre e parti su disegno | Distacco, danno interfaccia, deformazione, sovrametallo e quota finale errata | Valutare substrato, processo, mascheratura, spessore, finitura e accettazione | Substrato preparato, semilavorato rivestito, componente finito o assieme controllato |